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          200系列光刻機 —— TFT曝光


          SSB225

          SSB245

          SSB260

          SSB200系列投影光刻機采用先進的投影光刻機平臺技術,專用于AM-OLED和LCD顯示屏TFT電路制造,可應用于2.5代~6代的TFT顯示屏量產線。該系列設備具備高分辨率、高套刻精度等特性,支持6英寸掩模,顯著降低用戶使用成本。
             產品特征

          ● 高精度,分辨率可達1.5μm

          ● 支持小Mask,可用6英寸掩模實現12英寸屏幕制造

          ● 具備智能化校準及診斷功能,方便設備參數校調及用戶周期性維護

          ● 快速靈活的客制化服務

             主要技術參數

           型號

          分辨率

           套刻精度

           基板尺寸

          SSB225/10

          2μm L/S

          0.6μm

          370mm×470mm
          500mm×500mm

          SSB225/20

          1.5μm L/S

          0.5μm

          370mm×470mm
          500mm×500mm

           SSB245/10 2μm L/S 0.6μm 730mm×920mm
           SSB245/20 1.5μm L/S 0.5μm 730mm×920mm
           SSB260/10T 2μm L/S 0.6μm 1300mm×1500mm
          1500mm×1850mm
           SSB260/20T 1.5μm L/S 0.5μm 1300mm×1500mm
          1500mm×1850mm
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